ટાઇલ એડહેસિવમાં સેલ્યુલોઝ ઇથર્સ

૧ પરિચય

સિમેન્ટ-આધારિત ટાઇલ એડહેસિવ હાલમાં ખાસ ડ્રાય-મિક્સ્ડ મોર્ટારનો સૌથી મોટો ઉપયોગ છે, જે મુખ્ય સિમેન્ટિટિયસ સામગ્રી તરીકે સિમેન્ટથી બનેલો છે અને ગ્રેડેડ એગ્રીગેટ્સ, પાણી-જાળવણી એજન્ટો, પ્રારંભિક તાકાત એજન્ટો, લેટેક્સ પાવડર અને અન્ય કાર્બનિક અથવા અકાર્બનિક ઉમેરણો મિશ્રણ દ્વારા પૂરક છે. સામાન્ય રીતે, તેનો ઉપયોગ કરતી વખતે જ તેને પાણીમાં ભેળવવાની જરૂર પડે છે. સામાન્ય સિમેન્ટ મોર્ટારની તુલનામાં, તે ફેસિંગ મટિરિયલ અને સબસ્ટ્રેટ વચ્ચેના બંધન મજબૂતાઈને મોટા પ્રમાણમાં સુધારી શકે છે, અને તેમાં સારી સ્લિપ પ્રતિકાર અને ઉત્તમ પાણી અને પાણી પ્રતિકાર છે. તેનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે ઇમારતની આંતરિક અને બાહ્ય દિવાલ ટાઇલ્સ, ફ્લોર ટાઇલ્સ વગેરે જેવી સુશોભન સામગ્રીને પેસ્ટ કરવા માટે થાય છે. તેનો ઉપયોગ આંતરિક અને બાહ્ય દિવાલો, ફ્લોર, બાથરૂમ, રસોડા અને અન્ય ઇમારત સુશોભન સ્થળોએ વ્યાપકપણે થાય છે. તે હાલમાં સૌથી વધુ ઉપયોગમાં લેવાતી ટાઇલ બોન્ડિંગ સામગ્રી છે.

સામાન્ય રીતે જ્યારે આપણે ટાઇલ એડહેસિવના પ્રદર્શનનું મૂલ્યાંકન કરીએ છીએ, ત્યારે આપણે ફક્ત તેના ઓપરેશનલ પ્રદર્શન અને સ્લાઇડિંગ વિરોધી ક્ષમતા પર જ ધ્યાન આપતા નથી, પરંતુ તેની યાંત્રિક શક્તિ અને ખુલવાના સમય પર પણ ધ્યાન આપીએ છીએ. ટાઇલ એડહેસિવમાં સેલ્યુલોઝ ઈથર માત્ર પોર્સેલેઇન એડહેસિવના રિઓલોજિકલ ગુણધર્મોને અસર કરતું નથી, જેમ કે સરળ કામગીરી, ચોંટતા છરી, વગેરે, પરંતુ ટાઇલ એડહેસિવના યાંત્રિક ગુણધર્મો પર પણ તેનો મજબૂત પ્રભાવ છે.

2. ટાઇલ એડહેસિવના ખુલવાના સમય પર અસર

જ્યારે રબર પાવડર અને સેલ્યુલોઝ ઈથર ભીના મોર્ટારમાં સહઅસ્તિત્વ ધરાવે છે, ત્યારે કેટલાક ડેટા મોડેલો દર્શાવે છે કે રબર પાવડરમાં સિમેન્ટ હાઇડ્રેશન ઉત્પાદનો સાથે જોડાવા માટે વધુ મજબૂત ગતિ ઊર્જા હોય છે, અને સેલ્યુલોઝ ઈથર ઇન્ટર્સ્ટિશલ પ્રવાહીમાં વધુ અસ્તિત્વ ધરાવે છે, જે મોર્ટાર સ્નિગ્ધતા અને સેટિંગ સમયને વધુ અસર કરે છે. સેલ્યુલોઝ ઈથરનું સપાટી તણાવ રબર પાવડર કરતા વધારે છે, અને મોર્ટાર ઇન્ટરફેસ પર વધુ સેલ્યુલોઝ ઈથર સંવર્ધન બેઝ સપાટી અને સેલ્યુલોઝ ઈથર વચ્ચે હાઇડ્રોજન બોન્ડ બનાવવા માટે ફાયદાકારક રહેશે.

ભીના મોર્ટારમાં, મોર્ટારમાં પાણી બાષ્પીભવન થાય છે, અને સેલ્યુલોઝ ઈથર સપાટી પર સમૃદ્ધ થાય છે, અને 5 મિનિટની અંદર મોર્ટારની સપાટી પર એક ફિલ્મ બનશે, જે પછીના બાષ્પીભવન દરને ઘટાડશે, કારણ કે જાડા મોર્ટારમાંથી વધુ પાણી દૂર કરવામાં આવે છે. તેનો એક ભાગ પાતળા મોર્ટાર સ્તરમાં સ્થળાંતર કરે છે, અને શરૂઆતમાં બનેલી ફિલ્મ આંશિક રીતે ઓગળી જાય છે, અને પાણીના સ્થળાંતરથી મોર્ટાર સપાટી પર વધુ સેલ્યુલોઝ ઈથર સંવર્ધન થશે.

તેથી, મોર્ટારની સપાટી પર સેલ્યુલોઝ ઈથરની ફિલ્મ રચના મોર્ટારની કામગીરી પર મોટો પ્રભાવ પાડે છે. 1) રચાયેલી ફિલ્મ ખૂબ પાતળી છે અને બે વાર ઓગળી જશે, જે પાણીના બાષ્પીભવનને મર્યાદિત કરી શકતી નથી અને શક્તિ ઘટાડી શકતી નથી. 2) રચાયેલી ફિલ્મ ખૂબ જાડી છે, મોર્ટાર ઇન્ટર્સ્ટિશલ પ્રવાહીમાં સેલ્યુલોઝ ઈથરની સાંદ્રતા વધારે છે, અને સ્નિગ્ધતા વધારે છે, તેથી ટાઇલ્સ પેસ્ટ કરવામાં આવે ત્યારે સપાટીની ફિલ્મ તોડવી સરળ નથી. તે જોઈ શકાય છે કે સેલ્યુલોઝ ઈથરના ફિલ્મ-રચના ગુણધર્મો ખુલ્લા સમય પર વધુ અસર કરે છે. સેલ્યુલોઝ ઈથરનો પ્રકાર (HPMC, HEMC, MC, વગેરે) અને ઈથરીકરણની ડિગ્રી (અવેજી ડિગ્રી) સેલ્યુલોઝ ઈથરના ફિલ્મ-રચના ગુણધર્મો અને ફિલ્મની કઠિનતા અને કઠિનતાને સીધી અસર કરે છે.

૩. ચિત્રકામની શક્તિ પર પ્રભાવ

ઉપરોક્ત ફાયદાકારક ગુણધર્મો મોર્ટારને આપવા ઉપરાંત, સેલ્યુલોઝ ઈથર સિમેન્ટના હાઇડ્રેશન ગતિશાસ્ત્રમાં પણ વિલંબ કરે છે. આ રિટાર્ડિંગ અસર મુખ્યત્વે સિમેન્ટ સિસ્ટમમાં વિવિધ ખનિજ તબક્કાઓ પર સેલ્યુલોઝ ઈથર પરમાણુઓના શોષણને કારણે છે, પરંતુ સામાન્ય રીતે કહીએ તો, સર્વસંમતિ એ છે કે સેલ્યુલોઝ ઈથર પરમાણુઓ મુખ્યત્વે CSH અને કેલ્શિયમ હાઇડ્રોક્સાઇડ જેવા પાણી પર શોષાય છે. રાસાયણિક ઉત્પાદનો પર, તે ક્લિંકરના મૂળ ખનિજ તબક્કા પર ભાગ્યે જ શોષાય છે. વધુમાં, સેલ્યુલોઝ ઈથર છિદ્ર દ્રાવણની વધેલી સ્નિગ્ધતાને કારણે છિદ્ર દ્રાવણમાં આયનોની ગતિશીલતા (Ca2+, SO42-, …) ઘટાડે છે, જેનાથી હાઇડ્રેશન પ્રક્રિયામાં વધુ વિલંબ થાય છે.

સ્નિગ્ધતા એ બીજો મહત્વપૂર્ણ પરિમાણ છે, જે સેલ્યુલોઝ ઈથરની રાસાયણિક લાક્ષણિકતાઓનું પ્રતિનિધિત્વ કરે છે. ઉપર જણાવ્યા મુજબ, સ્નિગ્ધતા મુખ્યત્વે પાણીની જાળવણી ક્ષમતાને અસર કરે છે અને તાજા મોર્ટારની કાર્યક્ષમતા પર પણ નોંધપાત્ર અસર કરે છે. જો કે, પ્રાયોગિક અભ્યાસોમાં જાણવા મળ્યું છે કે સેલ્યુલોઝ ઈથરની સ્નિગ્ધતા સિમેન્ટ હાઇડ્રેશન ગતિશાસ્ત્ર પર લગભગ કોઈ અસર કરતી નથી. મોલેક્યુલર વજન હાઇડ્રેશન પર બહુ ઓછી અસર કરે છે, અને વિવિધ મોલેક્યુલર વજન વચ્ચે મહત્તમ તફાવત માત્ર 10 મિનિટ છે. તેથી, સિમેન્ટ હાઇડ્રેશનને નિયંત્રિત કરવા માટે મોલેક્યુલર વજન મુખ્ય પરિમાણ નથી.

સેલ્યુલોઝ ઈથરનું મંદન તેના રાસાયણિક બંધારણ પર આધાર રાખે છે, અને સામાન્ય વલણ તારણ કાઢે છે કે, MHEC માટે, મેથિલેશનની ડિગ્રી જેટલી વધારે હશે, સેલ્યુલોઝ ઈથરની મંદન અસર ઓછી થશે. વધુમાં, હાઇડ્રોફિલિક અવેજીકરણ (જેમ કે HEC માં અવેજી) ની મંદન અસર હાઇડ્રોફોબિક અવેજીકરણ (જેમ કે MH, MHEC, MHPC માં અવેજી) કરતા વધુ મજબૂત છે. સેલ્યુલોઝ ઈથરની મંદન અસર મુખ્યત્વે બે પરિમાણો દ્વારા પ્રભાવિત થાય છે, અવેજી જૂથોનો પ્રકાર અને જથ્થો.

અમારા વ્યવસ્થિત પ્રયોગોમાં એ પણ જાણવા મળ્યું છે કે ટાઇલ એડહેસિવ્સની યાંત્રિક શક્તિમાં અવેજીઓની સામગ્રી મહત્વપૂર્ણ ભૂમિકા ભજવે છે. અમે ટાઇલ એડહેસિવ્સમાં અવેજીની વિવિધ ડિગ્રી સાથે HPMC ના પ્રદર્શનનું મૂલ્યાંકન કર્યું, અને ટાઇલ એડહેસિવ્સના યાંત્રિક ગુણધર્મો પરની અસરો પર વિવિધ ક્યોરિંગ પરિસ્થિતિઓ હેઠળ વિવિધ જૂથો ધરાવતા સેલ્યુલોઝ ઇથર્સની અસરનું પરીક્ષણ કર્યું.

પરીક્ષણમાં, આપણે HPMC ને ધ્યાનમાં લઈએ છીએ, જે એક સંયોજન ઈથર છે, તેથી આપણે બે ચિત્રો એકસાથે મૂકવા પડશે. HPMC માટે, તેની પાણીમાં દ્રાવ્યતા અને પ્રકાશ પ્રસારણ સુનિશ્ચિત કરવા માટે તેને ચોક્કસ માત્રામાં શોષણની જરૂર છે. આપણે અવેજીઓની સામગ્રી જાણીએ છીએ. તે HPMC નું જેલ તાપમાન પણ નક્કી કરે છે, જે HPMC ના ઉપયોગ વાતાવરણને પણ નક્કી કરે છે. આ રીતે, HPMC નું જૂથ સામગ્રી જે સામાન્ય રીતે લાગુ પડે છે તે પણ એક શ્રેણીમાં ફ્રેમ કરવામાં આવે છે. આ શ્રેણીમાં, મેથોક્સી અને હાઇડ્રોક્સીપ્રોપોક્સીને કેવી રીતે જોડવું શ્રેષ્ઠ અસર પ્રાપ્ત કરવા માટે અમારા સંશોધનની સામગ્રી છે. આકૃતિ 2 દર્શાવે છે કે ચોક્કસ શ્રેણીમાં, મેથોક્સીલ જૂથોની સામગ્રીમાં વધારો પુલ-આઉટ શક્તિમાં ઘટાડો તરફ દોરી જશે, જ્યારે હાઇડ્રોક્સીપ્રોપોક્સીલ જૂથોની સામગ્રીમાં વધારો પુલ-આઉટ શક્તિમાં વધારો તરફ દોરી જશે. ખુલવાના કલાકો માટે સમાન અસર છે.

ખુલ્લા સમયની સ્થિતિમાં યાંત્રિક શક્તિમાં ફેરફારનો ટ્રેન્ડ સામાન્ય તાપમાનની સ્થિતિમાં સાથે સુસંગત છે. ઉચ્ચ મેથોક્સિલ (DS) સામગ્રી અને ઓછી હાઇડ્રોક્સીપ્રોપોક્સિલ (MS) સામગ્રીવાળા HPMC માં ફિલ્મની સારી કઠિનતા હોય છે, પરંતુ તે તેનાથી વિપરીત ભીના મોર્ટારને અસર કરશે. સામગ્રી ભીના કરવાના ગુણધર્મો.