ヒドロキシエチルセルロース（HEC）メチルセルロース（MC）やヒドロキシプロピルメチルセルロース（HpMC）といった他の非イオン性化学修飾セルロースエーテルが濁点を示す高温域においても、HECは広い温度範囲で高い水溶性を維持します。HECの高い溶解性の要因を解明するため、50GHzまでの超高周波誘電スペクトル測定を用いて、HECサンプル中の各グルコピラン単位の水分組成nHの温度依存性を10～70℃の温度範囲で調べました。
本研究では、HECサンプルについて、グルコースピラン単位のヒドロキシエチル置換モル数（MS）を1.3～3.6の範囲で測定した。全てのHECサンプルは、試験した温度範囲内で水に溶解し、濁りは見られなかった。MS 1.3のHECサンプルのnH値は20℃で14であり、温度上昇とともに緩やかに減少し、70℃では10に低下した。HECサンプルのpH値は、最小臨界nH値である約5よりも明らかに大きい。MCやHpMCなどのセルロースエーテルは、高温域でも水に溶解する必要がある。
しかし、HEC 分子は広い温度範囲で水溶性です。HEC サンプルおよびトリグリコール (HEC 置換基のモデル化合物) の nH の温度依存性は穏やかで、互いに似ています。この観察結果は、HEC サンプルの水和/脱水挙動が置換基によって大きく制御されていることを強く示唆しています。3 は 20 °C で 14 で、温度が上昇するにつれてゆっくりと低下し、70 °C で 10 に低下します。HEC サンプルの nH 値は、約 5 の最小臨界 nH 値よりも明らかに大きいです。MC や HpMC などのセルロースエーテルは、高温範囲でも水に溶解する必要があります。しかし、HEC 分子は広い温度範囲で水溶性です。HEC サンプルおよびトリグリコール (HEC 置換基のモデル化合物) の nH の温度依存性は穏やかで、互いに似ています。
この観察結果は、HECサンプルの水和/脱水挙動が主に置換基によって制御されていることを強く示唆している。3は20℃で14であり、温度上昇とともに徐々に減少し、70℃で10に低下する。HECサンプルのnH値は、約5の最小臨界nH値よりも明らかに大きい。MCやHpMCなどのセルロースエーテルは、高温域でも水に溶解する必要がある。しかし、HEC分子は広い温度範囲で水溶性である。HECサンプルとトリグリコール（HEC置換基のモデル化合物）の反応は穏やかで、互いに類似しています。この観察結果は、HECサンプルの水和／脱水挙動が置換基によって大きく制御されていることを強く示唆しています。
HEC サンプルの nH 値は、約 5 の最小臨界 nH 値よりも明らかに大きいです。MC や HpMC などのセルロースエーテルは、高温域でも水に溶解する必要があります。ただし、HEC 分子は広い温度範囲で水溶性です。HEC サンプルとトリグリコール (HEC 置換基のモデル化合物) の nH の温度依存性は緩やかで、互いに似ています。この観察結果は、HEC サンプルの水和/脱水挙動が置換基によって大きく制御されていることを強く示唆しています。HEC サンプルの nH 値は、約 5 の最小臨界 nH 値よりも明らかに大きいです。MC や HpMC などのセルロースエーテルは、高温域でも水に溶解する必要があります。ただし、HEC 分子は広い温度範囲で水溶性です。HEC サンプルとトリグリコール (HEC 置換基のモデル化合物) の nH の温度依存性は緩やかで、互いに似ています。
この観察結果は、HECサンプルの水和／脱水挙動が、その置換基によって大きく制御されていることを強く示唆しています。HEC分子は広い温度範囲で水溶性です。HECサンプルとトリグリコール（HEC置換基のモデル化合物）のnHの温度依存性は緩やかで、両者は類似しています。この観察結果は、HECサンプルの水和／脱水挙動が、その置換基によって大きく制御されていることを強く示唆しています。HEC分子は広い温度範囲で水溶性である。HECサンプルとトリグリコール（HEC置換基のモデル化合物）のnHの温度依存性は緩やかで、両者は類似している。この観察結果は、HECサンプルの水和／脱水挙動が置換基によって大きく制御されていることを強く示唆している。
投稿日時: 2024年4月25日