च्या वापरातहायड्रॉक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेल्युलोज एचपीएमसी, आपल्याला सहसा असे आढळते की ते मुळात दोन प्रकारांमध्ये विभागले जाते: तात्काळ आणि मंद विघटन. हायड्रॉक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेल्युलोजचे जलद विघटन आणि मंद विघटन यातील फरक आपण समजून घेऊया.
इन्स्टंट एचपीएमसी म्हणजे उत्पादन प्रक्रियेत पृष्ठभागावरील उपचारांसाठी क्रॉस-लिंकिंग एजंटचा वापर, जेणेकरून एचपीएमसी थंड पाण्यात लवकर विरघळू शकेल, परंतु वास्तविक उपाय नाही, एकसमान ढवळण्याद्वारे, चिकटपणा हळूहळू वाढतो, म्हणजेच विरघळतो;
हळूहळू विरघळणारे HPMC ला गरम वितळणारे पदार्थ देखील म्हटले जाऊ शकते. जेव्हा थंड पाणी येते तेव्हा ते गरम पाण्यात लवकर विरघळवता येते. समान रीतीने ढवळून, द्रावणाचे तापमान एका विशिष्ट तापमानापर्यंत खाली येईल. (आमच्या जेलचे तापमान सुमारे 60°C आहे), पारदर्शक आणि चिकट जेल तयार होईपर्यंत चिकटपणा हळूहळू दिसून येईल.
येथे तात्काळ उपाय आणि संथ उपाय यातील फरक आहे. जर तुम्हाला या ज्ञानाबद्दल काही प्रश्न असतील तर तुम्ही आमचा सल्ला घेऊ शकता.
हायड्रॉक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेल्युलोजएचपीएमसीसिमेंट हायड्रेशनला विलंब होतो
सिमेंटमध्ये हायड्रॉक्सीप्रोपिल मिथाइल सेल्युलोज घातल्याने त्याचे हायड्रेशन कमी होते. तर ते कसे कार्य करते याबद्दल तुम्हाला काय माहिती आहे? सिमेंट हायड्रेशनला विलंब करण्यासाठी हायड्रॉक्सीप्रोपिल मिथाइल सेल्युलोज कसे कार्य करते ते पाहूया. तत्व.
१. आयन हालचाल विकार गृहीतक
आम्ही असे गृहीत धरले होते की हायड्रॉक्सीप्रोपिल मिथाइल सेल्युलोज छिद्रांच्या द्रावणांची चिकटपणा वाढवेल, आयनिक हालचालीचा दर रोखेल आणि सिमेंटच्या हायड्रेशनला विलंब करेल. तथापि, या चाचणीतील कमी स्निग्धता असलेल्या सेल्युलोज इथरमध्ये सिमेंट हायड्रेशनला विलंब करण्याची अधिक क्षमता होती. म्हणून, ही गृहीतक अवैध आहे. पोरचेझ आणि इतर देखील या गृहीतकावर शंका घेतात. खरं तर, आयन स्थलांतर किंवा स्थलांतराचा वेळ खूपच कमी असतो, जो सिमेंट हायड्रेशनच्या विलंबापेक्षा वेगळा नसतो.
२. अल्कधर्मीय क्षय
पॉलिसेकेराइड्स अल्कधर्मी परिस्थितीत सहजपणे विघटित होतात आणि हायड्रॉक्सिल कार्बोक्झिलिक आम्ल तयार करतात ज्यामुळे सिमेंट हायड्रेशनला विलंब होतो. म्हणून, हायड्रॉक्सीप्रोपिल मिथाइल सेल्युलोजचे विलंबित हायड्रेशन अल्कधर्मी सिमेंट स्लरीमध्ये हायड्रॉक्सीकार्बोक्झिलिक आम्ल तयार करण्यासाठी त्याचे विघटन झाल्यामुळे असू शकते. तथापि, पोरचेझ आणि इतरांना असे आढळून आले की सेल्युलोज इथर अल्कधर्मी परिस्थितीत खूप स्थिर होते, फक्त थोडेसे विघटित होते आणि सिमेंट हायड्रेशनच्या विलंबावर विघटन उत्पादनांचा फारसा परिणाम होत नव्हता.
३, शोषण
हायड्रॉक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेल्युलोज ब्लॉक सिमेंट हायड्रेशन हे शोषण असू शकते. खरे कारण म्हणजे अनेक सेंद्रिय पदार्थ सिमेंट कण आणि हायड्रेशन उत्पादनांवर शोषले जातील, सिमेंट कणांचे विघटन आणि हायड्रेशन उत्पादनांचे स्फटिकीकरण रोखतील, ज्यामुळे सिमेंटचे हायड्रेशन आणि संक्षेपण विलंबित होईल. पोरचेझ आणि इतरांना आढळले की सेल्युलोज इथर कॅल्शियम हायड्रॉक्साईड, सीएसएच जेल आणि कॅल्शियम अॅल्युमिनेट हायड्रेट सारख्या हायड्रेशन उत्पादनांच्या पृष्ठभागावर सहजपणे शोषले जातात, परंतु एट्रिंजाइट आणि अनहायड्रेटेड टप्प्यांद्वारे सहजपणे शोषले जात नाहीत. शिवाय, सेल्युलोज इथरच्या बाबतीत, एचईसीची शोषण क्षमता सूज एमसीपेक्षा अधिक मजबूत असते. एचईसीमध्ये हायड्रॉक्सीथिल किंवा हायड्रॉक्सीप्रोपाइलचे प्रमाण जितके कमी असेल तितके कमी.एचपीएमसी, शोषण क्षमता जितकी मजबूत असेल: हायड्रेशन उत्पादनांबद्दल, कॅल्शियम हायड्रॉक्साईडची शोषण क्षमता CSH पेक्षा अधिक मजबूत असेल. पुढील विश्लेषणातून असेही दिसून येते की हायड्रेशन उत्पादने आणि सेल्युलोज इथरची शोषण क्षमता सिमेंट हायड्रेशनच्या विलंबाशी संबंधित आहे: शोषण जितके मजबूत असेल तितका विलंब अधिक स्पष्ट असेल, परंतु सेल्युलोज इथरचे एट्रिंजाइट शोषण कमकुवत असेल, परंतु त्याची निर्मिती, परंतु हे लक्षणीयरीत्या विलंबित असेल. ट्रायकॅल्शियम सिलिकेट आणि त्याच्या हायड्रेशन उत्पादनांचे सेल्युलोज इथरमध्ये मजबूत शोषण असते, ते स्पष्टपणे सिलिकेट टप्प्याच्या हायड्रेशन प्रक्रियेला विलंब करते, एट्रिंजाइटचे शोषण प्रमाण खूप कमी असते, परंतु विलंबित एट्रिंजाइट निर्मिती स्पष्ट असते, कारण विलंबित एट्रिंजाइट निर्मिती द्रावणातील Ca 2 + संतुलनामुळे प्रभावित होते, ते सेल्युलोज इथरचा विस्तार आहे. उशिरा सिलिकेट हायड्रेशन चालू राहिले.
हे हायड्रॉक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेल्युलोज डिले सिमेंट हायड्रेशन तत्व आहेत. आम्हाला आशा आहे की हे ज्ञान प्रत्येकाला उत्पादन कसे कार्य करते हे समजून घेण्यास आणि ते अधिक चांगल्या प्रकारे वापरण्यास सक्षम करेल.
पोस्ट वेळ: एप्रिल-२६-२०२४