הידראָקסיפּראָפּיל מעטהילסעללולאָסע (HPMC)איז אַ וואַסער-סאַליאַבאַל פּאָלימער קאַמאַנלי געניצט אין פאַרמאַסוטיקאַל, עסנוואַרג, קאָסמעטיק און קאַנסטראַקשאַן ינדאַסטריז. די נעץ אינהאַלט פון HPMC פיעסעס אַ קריטיש ראָלע אין זייַן פּראַסעסינג און פעסטקייַט. עס אַפעקץ די רהעאָלאָגיקאַל פּראָפּערטיעס, סאָלוביליטי און פּאָליצע לעבן פון די מאַטעריאַל. פארשטאנד פון די נעץ אינהאַלט איז וויכטיק פֿאַר זייַן פאָרמיוליישאַן, סטאָרידזש און סוף-נוצן אַפּלאַקיישאַן.
נעץ אינהאַלט פון HPMC
די נעץ אינהאַלט פון AnxinCel®HPMC איז בכלל באשלאסן דורך די פּראָצעס טנאָים און די ספּעציפיש מיינונג פון די פּאָלימער געניצט. די נעץ אינהאַלט קענען בייַטן דיפּענדינג אויף די רוי מאַטעריאַל, סטאָרידזש טנאָים און די דרייינג פּראָצעס. עס איז יוזשאַוואַלי אויסגעדריקט ווי אַ פּראָצענט פון די וואָג פון די מוסטער איידער און נאָך דרייינג. פֿאַר ינדאַסטריאַל אַפּלאַקיישאַנז, די נעץ אינהאַלט איז קריטיש, ווייַל יבעריק נעץ קענען פירן צו דערנידעריקונג, קלאַמפּינג אָדער רידוסט פאָרשטעלונג פון HPMC.
די נעץ אינהאַלט פון HPMC קענען קייט פון 5% צו 12%, כאָטש די טיפּיש קייט איז צווישן 7% און 10%. די נעץ אינהאַלט קענען זיין באשלאסן דורך דריינג אַ מוסטער אין אַ ספּעציפיש טעמפּעראַטור (למשל, 105 ° C) ביז עס ריטשאַז אַ קעסיידערדיק וואָג. דער חילוק אין וואָג איידער און נאָך דרייינג רעפּראַזענץ די נעץ צופרידן.
סיבות וואָס ווירקן נעץ אינהאַלט אין HPMC
עטלעכע סיבות קענען ווירקן די נעץ אינהאַלט פון HPMC:
הומידיטי און סטאָרידזש טנאָים:
הויך הומידיטי אָדער ימפּראַפּער סטאָרידזש טנאָים קענען פאַרגרעסערן די נעץ אינהאַלט פון HPMC.
HPMC איז היגראָסקאָפּיק, טייַטש עס טענדז צו אַרייַנציען נעץ פון די אַרומיק לופט.
פּאַקקאַגינג און סילינג פון די פּראָדוקט קענען מינאַמייז נעץ אַבזאָרפּשאַן.
פּראַסעסינג טנאָים:
די דרייינג טעמפּעראַטור און צייט בעשאַס מאַנופאַקטורינג קענען ווירקן די לעצט נעץ אינהאַלט.
גיך דריינג קענען רעזולטאַט אין ריזידזשואַל נעץ, בשעת פּאַמעלעך דרייינג קען פאַרשאַפן מער נעץ צו זיין ריטיינד.
HPMC גראַד:
פאַרשידענע גראַדעס פון HPMC (למשל, נידעריק וויסקאָסיטי, מיטל וויסקאָסיטי אָדער הויך וויסקאָסיטי) קען האָבן אַ ביסל וועריינג נעץ אינהאַלט רעכט צו דיפעראַנסיז אין מאָלעקולאַר סטרוקטור און פּראַסעסינג.
סאַפּלייער ספּעסאַפאַקיישאַנז:
סאַפּלייערז קענען צושטעלן HPMC מיט ספּעסיפיעד נעץ אינהאַלט וואָס איז אַליינז מיט ינדאַסטרי סטאַנדאַרדס.
טיפּיש נעץ אינהאַלט פון HPMC לויט גראַדע
די נעץ אינהאַלט פון HPMC וועריז דיפּענדינג אויף די מיינונג און די בדעה נוצן. דאָ ס אַ טיש וואָס ווייַזן טיפּיש נעץ אינהאַלט לעוועלס פֿאַר פאַרשידענע גראַדעס פון HPMC.
| HPMC גראַד | וויסקאָסיטי (קפּ) | נעץ אינהאַלט (%) | אַפּפּליקאַטיאָנס |
| נידעריק וויסקאָסיטי HPMC | 5 - 50 | 7 - 10 | פאַרמאַסוטיקאַלז (טאַבלעץ, קאַפּסאַלז), קאָסמעטיקס |
| מיטל וויסקאָסיטי HPMC | 100 - 400 | 8 - 10 | פאַרמאַסעוטיקאַלז (קאַנטראָולד מעלדונג), עסנוואַרג, אַדכיסיווז |
| הויך וויסקאָסיטי HPMC | 500 - 2000 | 8 — 12 | קאַנסטראַקשאַן (צעמענט-באזירט), עסנוואַרג (טיקנינג אַגענט) |
| פאַרמאַסוטיקאַל HPMC | 100 - 4000 | 7 – 9 | טאַבלעץ, קאַפּסל קאָוטינגז, געל פאָרמיוליישאַנז |
| פוד-גראַדע HPMC | 50 - 500 | 7 - 10 | פוד טיקנינג, עמולסיפיקאַטיאָן, קאָוטינגז |
| קאַנסטראַקשאַן גראַדע HPMC | 400 - 10000 | 8 — 12 | מאָרטער, אַדכיסיווז, פּלאַסטערז, טרוקן מיקסעס |
טעסטינג און באַשטימונג פון נעץ אינהאַלט
עס זענען עטלעכע נאָרמאַל מעטהאָדס צו באַשטימען די נעץ אינהאַלט פון HPMC. די צוויי מערסט פּראָסט מעטהאָדס זענען:
גראַווימעטריק מעטאָד (פאַרלוסט אויף דרייינג, LOD):
דאָס איז די מערסט וויידלי געניצט אופֿן פֿאַר דיטערמאַנינג נעץ צופרידן. א באקאנט וואָג פון HPMC איז געשטעלט אין אַ דרייינג ויוון שטעלן בייַ 105 ° C. נאָך אַ ספּעסיפיעד צייט (טיפּיקלי 2-4 שעה), די מוסטער איז ווייד ווידער. דער חילוק אין וואָג גיט די נעץ צופרידן, וואָס איז אויסגעדריקט ווי אַ פּראָצענט פון די ערשט מוסטער וואָג.
Karl Fischer טיטראַטיאָן:
דער אופֿן איז מער פּינטלעך ווי די LOD און ינוואַלווז אַ כעמישער רעאַקציע וואָס קוואַנטאַפייז וואַסער אינהאַלט. דעם אופֿן איז טיפּיקלי געניצט ווען גענוי נעץ פעסטקייַט איז פארלאנגט.
פּראַל פון נעץ אינהאַלט אויף HPMC פּראָפּערטיעס
די נעץ אינהאַלט פון AnxinCel®HPMC ינפלואַנסיז זייַן פאָרשטעלונג אין פאַרשידן אַפּלאַקיישאַנז:
וויסקאָסיטי:די נעץ אינהאַלט קען ווירקן די וויסקאָסיטי פון HPMC סאַלושאַנז. העכער נעץ צופרידן קענען פאַרגרעסערן וויסקאָסיטי אין זיכער פאָרמיוליישאַנז, בשעת נידעריקער נעץ אינהאַלט קען פירן צו נידעריקער וויסקאָסיטי.
סאָלוביליטי:וידעפדיק נעץ קענען פירן צו אַגגלאָמעריישאַן אָדער רידוסט סאָלוביליטי פון HPMC אין וואַסער, וואָס מאכט עס ווייניקער עפעקטיוו פֿאַר זיכער אַפּלאַקיישאַנז, אַזאַ ווי קאַנטראָולד מעלדונג פאָרמיוליישאַנז אין די פאַרמאַסוטיקאַל אינדוסטריע.
פעסטקייַט:HPMC איז בכלל סטאַביל אין טרוקן טנאָים, אָבער הויך נעץ אינהאַלט קען פירן צו מיקראָביאַל וווּקס אָדער כעמישער דערנידעריקונג. פֿאַר דעם סיבה, HPMC איז טיפּיקלי סטאָרד אין געחתמעט קאַנטיינערז אין נידעריק הומידיטי ינווייראַנמאַנץ.
נעץ אינהאַלט און פּאַקקאַגינג פון HPMC
רעכט צו דער היגראָסקאָפּיק נאַטור פון HPMC, געהעריק פּאַקקאַגינג איז יקערדיק צו פאַרמייַדן נעץ אַבזאָרפּשאַן פון דער אַטמאָספער. HPMC איז טיפּיקלי פּאַקידזשד אין נעץ-דערווייַז באַגס אָדער קאַנטיינערז געמאכט פון מאַטעריאַלס אַזאַ ווי פּאַליעטאַלין אָדער מאַלטי-שיכטע לאַמאַנאַץ צו באַשיצן עס פון הומידיטי. די פּאַקקאַגינג ינשורז אַז די נעץ צופרידן בלייבט ין דער געוואלט קייט בעשאַס סטאָרידזש און אַריבערפירן.
נעץ אינהאַלט קאָנטראָל אין מאַנופאַקטורינג
בעשאַס די מאַנופאַקטורינג פון HPMC, עס איז וויכטיק צו מאָניטאָר און קאָנטראָלירן די נעץ אינהאַלט צו האַלטן פּראָדוקט קוואַליטעט. דאָס קען זיין דערגרייכט דורך:
דרייינג טעקניקס:HPMC קענען זיין דאַר מיט הייס לופט, וואַקוום דרייערז אָדער דרייערז. די טעמפּעראַטור און געדויער פון דריינג מוזן זיין אָפּטימיזעד צו ויסמיידן אונטער-דרייינג (הויך נעץ צופרידן) און איבער-דרייינג (וואָס קען פירן צו טערמאַל דערנידעריקונג).
ענוויראָנמענטאַל קאָנטראָל:עס איז קריטיש צו האַלטן אַ קאַנטראָולד סוויווע מיט נידעריק הומידיטי אין די פּראָדוקציע געגנט. דאָס קען אַרייַנציען דעהומידיפערס, לופטקילונג און די נוצן פון נעץ סענסאָרס צו מאָניטאָר די אַטמאַספעריק טנאָים בעשאַס פּראַסעסינג.
די נעץ צופרידן פון HPMCטיפּיקאַללי פאלן אין די קייט פון 7% צו 10%, כאָטש עס קען בייַטן דיפּענדינג אויף די מיינונג, אַפּלאַקיישאַן און סטאָרידזש טנאָים. מויסטשער אינהאַלט איז אַ וויכטיק פּאַראַמעטער וואָס אַפעקץ די רהעאָלאָגיקאַל פּראָפּערטיעס, סאָלוביליטי און פעסטקייַט פון AnxinCel®HPMC. מאַניאַפאַקטשערערז און פאָרמולאַטאָרס דאַרפֿן צו קערפאַלי קאָנטראָלירן און מאָניטאָר נעץ אינהאַלט צו ענשור אָפּטימאַל פאָרשטעלונג אין זייער ספּעציפיש אַפּלאַקיישאַנז.
פּאָסטן צייט: יאנואר 20-2025