HPMC/HPS උණුසුම්-සීතල ජෙල් මිශ්‍රණය

හයිඩ්‍රොක්සිප්‍රොපයිල් මෙතිල්සෙලියුලෝස් (HPMC)පටලයට විශිෂ්ට කාර්ය සාධනයක් ඇත, නමුත් HPMC තාප ජෙල් එකක් නිසා, අඩු උෂ්ණත්වයේ දුස්ස්රාවිතතාවය ඉතා අඩු වන අතර, එය ආහාරයට ගත හැකි පටලයක් සකස් කිරීම සඳහා ආලේපනය (හෝ ගිල්වීම) සහ අඩු උෂ්ණත්වයකදී වියළීම සඳහා හිතකර නොවන අතර, එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස දුර්වල සැකසුම් කාර්ය සාධනයක් ඇති වේ; ඊට අමතරව, එහි ඉහළ පිරිවැය එහි යෙදුම සීමා කරයි. හයිඩ්‍රොක්සිප්‍රොපයිල් පිෂ්ඨය (HPS) යනු අඩු වියදම් සීතල ජෙල් වර්ගයකි, එහි එකතු කිරීම අඩු උෂ්ණත්වයකදී HPMC හි දුස්ස්රාවිතතාවය වැඩි කළ හැකිය, HPMC හි සැකසුම් කාර්ය සාධනය වැඩි දියුණු කළ හැකි අතර නිෂ්පාදන පිරිවැය අඩු කළ හැකිය, තවදුරටත්, එකම ජලාකර්ෂණීයතාව, ග්ලූකෝස් ඒකක සහ හයිඩ්‍රොක්සිප්‍රොපයිල් කාණ්ඩ සියල්ලම මෙම පොලිමර් දෙකෙහි අනුකූලතාව වැඩි දියුණු කිරීමට දායක වේ. එබැවින්, HPS සහ HPMC මිශ්‍ර කිරීමෙන් උණුසුම්-සීතල ජෙල් මිශ්‍ර පද්ධතියක් සකස් කරන ලද අතර, HPMC/HPS උණුසුම්-සීතල ජෙල් මිශ්‍රණ පද්ධතියේ ජෙල් ව්‍යුහයට උෂ්ණත්වයේ බලපෑම රියෝමීටරය සහ කුඩා කෝණ X-කිරණ විසිරුම් ශිල්පීය ක්‍රම භාවිතයෙන් ක්‍රමානුකූලව අධ්‍යයනය කරන ලදී. , තාප පිරියම් කිරීමේ තත්වයන්ගේ බලපෑම සමඟ පටල පද්ධතියේ ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය සහ ගුණාංග සමඟ ඒකාබද්ධ කර, පසුව තාප පිරියම් කිරීමේ තත්වයන් යටතේ මිශ්‍රණ පද්ධතියේ ජෙල් ව්‍යුහය-පටල ව්‍යුහය-පටල ගුණාංග අතර සම්බන්ධතාවය ගොඩනඟා ඇත.

ප්‍රතිඵලවලින් පෙනී යන්නේ ඉහළ උෂ්ණත්වයකදී, ජෙල් ඉහළඑච්පීඑම්සීඅන්තර්ගතයට ඉහළ මාපාංකයක් සහ සැලකිය යුතු ඝන-සමාන හැසිරීමක් ඇත, ජෙල් විසිරුම්කරුවන්ගේ ස්වයං-සමාන ව්‍යුහය ඝනත්වයෙන් වැඩි වන අතර ජෙල් සමුච්චයන්ගේ ප්‍රමාණය විශාල වේ; අඩු උෂ්ණත්වයේ දී, HPS අන්තර්ගතය ඉහළ ජෙල් සාම්පලවල ඉහළ මාපාංකයක්, වඩාත් කැපී පෙනෙන ඝන-සමාන හැසිරීමක් සහ ජෙල් විසිරුම්කරුවන්ගේ ඝනත්වයෙන් වැඩි ස්වයං-සමාන ව්‍යුහයක් ඇත. එකම මිශ්‍ර කිරීමේ අනුපාතයක් සහිත සාම්පල සඳහා, ඉහළ උෂ්ණත්වයේ දී HPMC ආධිපත්‍යය දරන ජෙල් වල මාපාංකය සහ ඝන-සමාන හැසිරීම් වැදගත්කම සහ ස්වයං-සමාන ව්‍යුහ ඝනත්වය අඩු උෂ්ණත්වයේ දී HPS ආධිපත්‍යය දරන ඒවාට වඩා වැඩි ය. වියළීමේ උෂ්ණත්වය වියළීමට පෙර පද්ධතියේ ජෙල් ව්‍යුහයට බලපෑ හැකි අතර, පසුව චිත්‍රපටයේ ස්ඵටික ව්‍යුහයට සහ අස්ඵටික ව්‍යුහයට බලපෑම් කළ හැකි අතර, අවසානයේ චිත්‍රපටයේ යාන්ත්‍රික ගුණාංග කෙරෙහි වැදගත් බලපෑමක් ඇති කළ හැකි අතර, එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස ඉහළ උෂ්ණත්වයේ දී වියළන ලද චිත්‍රපටයේ ආතන්ය ශක්තිය සහ මාපාංකය ඇති වේ. අඩු උෂ්ණත්වයේ දී වියළීමට වඩා වැඩිය. සිසිලන අනුපාතය පද්ධතියේ ස්ඵටික ව්‍යුහයට පැහැදිලි බලපෑමක් ඇති නොකරයි, නමුත් චිත්‍රපටයේ ක්ෂුද්‍ර වසමේ ස්වයං-සමාන ශරීරයේ ඝනත්වයට බලපෑමක් ඇති කරයි. මෙම පද්ධතිය තුළ, පටලයේ ස්වයං-සමාන ව්‍යුහයේ ඝනත්වය පටලයේ යාන්ත්‍රික ගුණාංගවලට බලපෑ හැකිය. කාර්ය සාධනය ප්‍රධාන බලපෑමක් ඇති කරයි.

මිශ්‍ර පටලය සකස් කිරීම මත පදනම්ව, HPMC/HPS මිශ්‍ර පටලය වරණාත්මකව ඩයි කිරීම සඳහා අයඩින් ද්‍රාවණය භාවිතා කිරීම අන්වීක්ෂයක් යටතේ මිශ්‍ර පද්ධතියේ අවධි ව්‍යාප්තිය සහ අවධි සංක්‍රාන්තිය පැහැදිලිව නිරීක්ෂණය කිරීම සඳහා නව ක්‍රමයක් ස්ථාපිත කරන බව අධ්‍යයනයෙන් සොයා ගන්නා ලදී. ක්‍රමය, පිෂ්ඨය මත පදනම් වූ මිශ්‍ර පද්ධතිවල අවධි ව්‍යාප්තිය අධ්‍යයනය කිරීම සඳහා ක්‍රමවේදීය මාර්ගෝපදේශක වැදගත්කමක් ඇත. මෙම නව පර්යේෂණ ක්‍රමය භාවිතා කරමින්, අධෝරක්ත වර්ණාවලීක්ෂය, ස්කෑනිං ඉලෙක්ට්‍රෝන අන්වීක්ෂය සහ විස්තාරකමානය සමඟ ඒකාබද්ධව, පද්ධතියේ අවධි සංක්‍රාන්තිය, අනුකූලතාව සහ යාන්ත්‍රික ගුණාංග විශ්ලේෂණය කර අධ්‍යයනය කරන ලද අතර, අනුකූලතාව, අවධි සංක්‍රාන්තිය සහ පටල පෙනුම ගොඩනඟන ලදී. කාර්ය සාධනය අතර සම්බන්ධතාවය. අන්වීක්ෂ නිරීක්ෂණ ප්‍රතිඵලවලින් පෙනී යන්නේ HPS අනුපාතය 50% ක් වන විට පද්ධතිය අවධි සංක්‍රාන්තියට භාජනය වන බවත්, අන්තර් අවධි මිශ්‍ර කිරීමේ සංසිද්ධිය චිත්‍රපටයේ පවතින බවත්, පද්ධතියට යම් මට්ටමක අනුකූලතාවයක් ඇති බව පෙන්නුම් කරන බවත්ය; අධෝරක්ත, තාප ගුරුත්වාකර්ෂණ විශ්ලේෂණය සහ SEM ප්‍රතිඵල මිශ්‍ර කිරීම තවදුරටත් සත්‍යාපනය කරයි. පද්ධතියට යම් මට්ටමක අනුකූලතාවයක් ඇත. HPS අන්තර්ගතය 50% ක් වන විට මිශ්‍ර පටලයේ මාපාංකය වෙනස් වේ.එච්.පී.එස්.අන්තර්ගතය 50% ට වඩා වැඩි නම්, මිශ්‍ර සාම්පලයේ ස්පර්ශ කෝණය පිරිසිදු සාම්පලවල ස්පර්ශ කෝණ සම්බන්ධ කරන සරල රේඛාවෙන් අපගමනය වන අතර, එය 50% ට වඩා අඩු වූ විට, එය මෙම සරල රේඛාවෙන් සෘණාත්මකව අපගමනය වේ. , ඒවා ප්‍රධාන වශයෙන් අදියර සංක්‍රාන්ති නිසා ඇතිවේ.