ಲ್ಯಾಟೆಕ್ಸ್ ಪೇಂಟ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಮೇಲೆ ವಿವಿಧ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಸೇರ್ಪಡೆ ವಿಧಾನಗಳ ಪ್ರಭಾವಕ್ಕೆ ಕಾರಣಗಳ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ.

ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ಅಂತರ-ಅಣು ಮತ್ತು ಅಂತರ-ಅಣು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳ ರಚನೆಯ ಮೂಲಕ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದು, ಹಾಗೆಯೇ ಆಣ್ವಿಕ ಸರಪಳಿಗಳ ಜಲಸಂಚಯನ ಮತ್ತು ಸರಪಳಿ ಸಿಕ್ಕಿಹಾಕಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ನ ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ವಿಧಾನವನ್ನು ಎರಡು ಅಂಶಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಬಹುದು: ಒಂದು ಅಂತರ-ಅಣು ಮತ್ತು ಅಂತರ-ಅಣು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳ ಪಾತ್ರ. ಹೈಡ್ರೋಫೋಬಿಕ್ ಮುಖ್ಯ ಸರಪಳಿಯು ಸುತ್ತಮುತ್ತಲಿನ ನೀರಿನ ಅಣುಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳ ಮೂಲಕ ಸಂಯೋಜಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಪಾಲಿಮರ್‌ನ ದ್ರವತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ. ಕಣಗಳ ಪರಿಮಾಣವು ಕಣಗಳ ಮುಕ್ತ ಚಲನೆಗೆ ಜಾಗವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ; ಎರಡನೆಯದಾಗಿ, ಆಣ್ವಿಕ ಸರಪಳಿಗಳ ಸಿಕ್ಕಿಹಾಕಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಅತಿಕ್ರಮಣದ ಮೂಲಕ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಸರಪಳಿಗಳು ಇಡೀ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ಜಾಲ ರಚನೆಯಲ್ಲಿರುತ್ತವೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.

ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಶೇಖರಣಾ ಸ್ಥಿರತೆಯಲ್ಲಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಹೇಗೆ ಪಾತ್ರವಹಿಸುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ನೋಡೋಣ: ಮೊದಲನೆಯದಾಗಿ, ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳ ಪಾತ್ರವು ಮುಕ್ತ ನೀರಿನ ಹರಿವನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸುತ್ತದೆ, ನೀರಿನ ಧಾರಣದಲ್ಲಿ ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನೀರಿನ ಬೇರ್ಪಡಿಕೆಯನ್ನು ತಡೆಯಲು ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುತ್ತದೆ; ಎರಡನೆಯದಾಗಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಸರಪಳಿಗಳ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆ ಲ್ಯಾಪ್ ಎಂಟ್ಯಾಂಗಲ್ಮೆಂಟ್ ವರ್ಣದ್ರವ್ಯಗಳು, ಫಿಲ್ಲರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಎಮಲ್ಷನ್ ಕಣಗಳ ನಡುವೆ ಅಡ್ಡ-ಸಂಯೋಜಿತ ಜಾಲ ಅಥವಾ ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ನೆಲೆಗೊಳ್ಳುವುದನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ.

ಮೇಲಿನ ಎರಡು ವಿಧಾನಗಳ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಇದನ್ನು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುತ್ತದೆಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ಶೇಖರಣಾ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಉತ್ತಮ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಲ್ಯಾಟೆಕ್ಸ್ ಪೇಂಟ್ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ, ಬೀಟಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಪ್ರಸರಣದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸೇರಿಸಲಾದ HEC ಬಾಹ್ಯ ಬಲದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ, ಶಿಯರ್ ವೇಗದ ಗ್ರೇಡಿಯಂಟ್ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ, ಅಣುಗಳು ಹರಿವಿನ ದಿಕ್ಕಿಗೆ ಸಮಾನಾಂತರವಾಗಿ ಕ್ರಮಬದ್ಧ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ ಜೋಡಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಆಣ್ವಿಕ ಸರಪಳಿಗಳ ನಡುವಿನ ಲ್ಯಾಪ್ ವಿಂಡಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ನಾಶವಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಪರಸ್ಪರ ಜಾರುವಿಕೆಗೆ ಸುಲಭವಾಗಿದೆ, ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ. ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದ ಇತರ ಘಟಕಗಳನ್ನು (ವರ್ಣದ್ರವ್ಯಗಳು, ಫಿಲ್ಲರ್‌ಗಳು, ಎಮಲ್ಷನ್‌ಗಳು) ಹೊಂದಿರುವುದರಿಂದ, ಈ ಕ್ರಮಬದ್ಧ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಬಣ್ಣವನ್ನು ಬೆರೆಸಿದ ನಂತರ ದೀರ್ಘಕಾಲದವರೆಗೆ ಇರಿಸಿದರೂ ಸಹ ಅಡ್ಡ-ಲಿಂಕಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಅತಿಕ್ರಮಣದ ಸಿಕ್ಕಿಹಾಕಿಕೊಂಡ ಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಪುನಃಸ್ಥಾಪಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ. ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, HEC ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳನ್ನು ಮಾತ್ರ ಅವಲಂಬಿಸಿದೆ. ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಮತ್ತು ದಪ್ಪವಾಗುವಿಕೆಯ ಪರಿಣಾಮವು ದಪ್ಪವಾಗುವಿಕೆಯ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಹೆಚ್‌ಇಸಿ, ಮತ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಶೇಖರಣಾ ಸ್ಥಿರತೆಗೆ ಈ ಪ್ರಸರಣ ಸ್ಥಿತಿಯ ಕೊಡುಗೆಯನ್ನು ಸಹ ಅದಕ್ಕೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಕರಗಿದ HEC ಲೀಡ್‌ಡೌನ್ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಕಡಿಮೆ ಕಲಕುವ ವೇಗದಲ್ಲಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಏಕರೂಪವಾಗಿ ಹರಡಲ್ಪಟ್ಟಿತು ಮತ್ತು HEC ಸರಪಳಿಗಳ ಅಡ್ಡ-ಲಿಂಕ್‌ನಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ ನೆಟ್‌ವರ್ಕ್ ರಚನೆಯು ಕಡಿಮೆ ಹಾನಿಗೊಳಗಾಯಿತು. ಹೀಗಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ದಕ್ಷತೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿ, ಎರಡು ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ವಿಧಾನಗಳ ಏಕಕಾಲಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ನ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ದಪ್ಪವಾಗುವುದು ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವ ಪ್ರಮೇಯವಾಗಿದೆ. ಬೇರೆ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ನ ಕರಗಿದ ಮತ್ತು ಚದುರಿದ ಸ್ಥಿತಿಯು ಅದರ ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಸ್ಥಿರತೆಗೆ ಅದರ ಕೊಡುಗೆಯನ್ನು ಗಂಭೀರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.